MHEC LH 660M

EipponCell MHEC LH 660M ಮೀಥೈಲ್ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಅನ್ನು ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿ ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್‌ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದರ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಆಣ್ವಿಕ ಜಾಲ ರಚನೆಯು ಸಿಮೆಂಟ್ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಜಾಲ ರಚನೆಯೊಂದಿಗೆ ಹೆಣೆದುಕೊಂಡಿದೆ.ಸಿಮೆಂಟ್‌ನ ಆರಂಭಿಕ ಜಲಸಂಚಯನವು ಪರೋಕ್ಷವಾಗಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ದ್ರಾವಣ ಮತ್ತು ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಮೇಲೆ "ಸಂಯೋಜಿತ ಸೂಪರ್‌ಪೊಸಿಷನ್ ಪರಿಣಾಮ" ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ.ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ಅವುಗಳ ಪ್ರತ್ಯೇಕ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಗಳ ಮೊತ್ತಕ್ಕಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿ ಮತ್ತು ಶುದ್ಧ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿ ಎರಡೂ ಶಿಯರ್ ತೆಳುವಾಗುವುದು ಅಥವಾ ಸ್ಯೂಡೋಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ನಡವಳಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯ ಸ್ಯೂಡೋಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸಿಟಿಯು ಶುದ್ಧ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ.ಕಡಿಮೆ ತಿರುಗುವಿಕೆಯ ದರದಲ್ಲಿ ಅಥವಾ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿ ಅಥವಾ ಕಡಿಮೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅಂಶದ ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯೊಂದಿಗೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯ ಸ್ಯೂಡೋಪ್ಲಾಸ್ಟಿಟಿಯು ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ.

ಉಷ್ಣತೆಯು ಹೆಚ್ಚಾದಂತೆ, ಸಿಮೆಂಟ್ ಜಲಸಂಚಯನದ ವೇಗ ಮತ್ತು ಪ್ರಮಾಣವು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಶುದ್ಧ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯಲ್ಲಿ ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಳಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್‌ನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ವಿವಿಧ ರೀತಿಯ ವಿವಿಧ ಪ್ರತಿಬಂಧಕ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಗಳು ಮತ್ತು ಸಿಮೆಂಟ್ ಜಲಸಂಚಯನದ ಮೇಲೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಪ್ರಮಾಣದಿಂದಾಗಿ ತಾಪಮಾನದೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಗುತ್ತದೆ.